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          脫氧脫氫提純設(shè)備Ⅰ

          本技術(shù)適用于氮氣、一氧化碳、二氧化碳、惰性氣體(氬、氦、氪、氙、氖氣等)、乙烯等氣體中除氧以獲取高純氣

          脫氧脫氫提純設(shè)備Ⅰ
          配置功能
          常規(guī)配置功能

          可編程序控制器自動化控制

          氮氣純度、流量在線監(jiān)測

          冷干機(jī)、過濾器自動排污

          可選配置功能

          備用氮氣自動補(bǔ)充、自動切換

          人機(jī)界面控制系統(tǒng)

          故障報警、自動關(guān)閉加氫電磁閥

          全自動開停機(jī)

          技術(shù)指標(biāo)

          額定處理量:10-500Nm3/h

          工作溫度:300℃

          脫氫深度:≤1ppm

          原料氣氧含量:≤1000ppm

          脫氧深度:≤1ppm

          常壓露點 :≤-60℃(其他露點請咨詢)

          原理

          利用催化劑中的金屬低價氧化物與雜質(zhì)氧在加熱條件下直接發(fā)生氧化反應(yīng)生成金屬高價氧化物,從而將雜質(zhì)氧除去。再在加熱條件下通入氫氣與產(chǎn)品混合氣,金屬高價氧化物與氫氣發(fā)生還原反應(yīng)生成金屬低價氧化物,從而使催化劑再次具有與雜質(zhì)氧發(fā)生氧化反應(yīng)的性能,進(jìn)而采用干燥再進(jìn)行除水。

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